핫 플레이트[HOTPLATE]
 

적용
분야

반도체 웨이퍼 제조 가열용, 액정 디스플레이 기판 가열용CVD, 플라스마 에칭의 열처리용,시험 장치의 가열, 플라스틱, 고무등의 예열·성형 핫 프레스,각종 화학 기기,

최대 가열온도

100 - 600°C

 

핫 플레이트는 다양한 용도로 사용되며 저온으로부터 고온까지, 대기 및 진공 용도로 사용하며, 균일한 온도분포가 되도록 제작하고 있습니다.

열안정성을 고려해 제작하고 있기 때문에 온도 분포 정밀도는 변화하지 않습니다.

 
■공통 사양
 

항    목

내     용

가열온도 범위

상온 ~ 700℃

재질

알루미늄, SUS304, SUS316L

표면 처리

아노다이징, 니켈, 크롬 처리

사용용도

대기중, 진공중, 불활성 가스 및 각종 처리 가스중

온도 분포도

요구 온도에 따라 일정한 온도[±2%℃] 로 제어가능

온도센서

서머커플을 핫플레이트내에 설치 사용


 핫 플레이트의 표준규격
 

일반형 핫 플레이트

원형 핫 플레이트

정밀 핫 플레이트

한일전열엔지니어링/생산품목/핫플레이트[HORPLATE]

한일전열엔지니어링/생산품목/핫플레이트[HORPLATE]

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